Penggunaan peralatan muncung pengabusan ultrasonik dalam penyemburan pemangkin

Apakah muncung pengabusan ultrasonik?

Muncung pengabusan ultrasonik menggunakan transduser piezoelektrik untuk menghasilkan-getaran mekanikal frekuensi tinggi 20kHz hingga 120kHz atau lebih tinggi, menghantar cecair ke permukaan muncung untuk membentuk filem cecair yang stabil. Getaran ultrasonik kemudian memecahkan filem ini menjadi titisan kecil yang seragam, yang kemudiannya diangkut ke permukaan bahan kerja oleh gas pembawa tekanan-rendah untuk membentuk salutan-berkualiti tinggi.

Tidak seperti penyemburan tekanan tradisional, penyemburan ultrasonik bergantung hampir sepenuhnya pada-udara tekanan tinggi, sekali gus menghapuskan percikan dan lantunan yang ketara, serta meningkatkan kadar penggunaan buburan pemangkin dengan banyak.

---

Prinsip kerja penyemburan pemangkin ultrasonik

Buburan pemangkin dihantar secara berterusan ke muncung ultrasonik melalui pam pemeteran ketepatan.

Getaran frekuensi tinggi-menyebabkan buburan membentuk filem cecair seragam, yang kemudiannya diatomkan serta-merta menjadi titisan kira-kira 20–60 μm (saiz tepat bergantung pada frekuensi muncung dan sifat cecair).

Selepas itu, sejumlah kecil gas pembawa digunakan untuk meratakan titisan ke permukaan substrat. Digabungkan dengan platform gerakan automatik XYZ, kawasan-besar,-kepersisan tinggi dan penyemburan automatik boleh berulang boleh dicapai.

Keseluruhan proses adalah berterusan, stabil dan membenarkan kawalan tepat ketebalan filem, menjadikannya ideal untuk-bahan pemangkin bernilai tinggi.

---

Kelebihan pemangkin semburan ultrasonik

1. Keseragaman tinggi penyemburan

Titisan yang dihasilkan oleh ultrasound mempunyai pengedaran saiz yang sangat seragam, yang boleh membentuk filem pemangkin tebal yang berterusan, padat dan seragam, dengan berkesan mengurangkan lubang jarum, penggumpalan dan kendur.

2. Meningkatkan penggunaan mangkin

Pemangkin logam berharga seperti platinum, iridium, dan ruthenium adalah mahal.

Dalam proses penyemburan tradisional, sejumlah besar buburan terbuang akibat lantunan dan semburan berlebihan.

Penyemburan ultrasonik hampir tidak melibatkan-impak kelajuan tinggi, membolehkan penggunaan bahan mencapai lebih 90%, mengurangkan kos pengeluaran dengan ketara.

3. Kawalan tepat ketebalan filem

Dengan melaraskan:

* Kekerapan muncung

* Kadar aliran cecair

* Kelajuan semburan

* Jarak imbasan

* Bilangan semburan

, ketebalan filem antara puluhan nanometer hingga ratusan mikrometer boleh diperolehi untuk memenuhi keperluan proses yang berbeza.

4. Tidak terdedah kepada penyumbatan muncung

Muncung ultrasonik tidak mempunyai struktur lubang kecil-nozel tekanan tradisional, menjadikannya lebih mudah disesuaikan dengan buburan yang mengandungi zarah nano, zarah seramik dan pemangkin, sekali gus mengurangkan risiko tersumbat.

5. Salutan semburan lembut melindungi struktur bahan.

Buburan pemangkin biasanya mengandungi nanopartikel dan ionomer (seperti Nafion).

Pengabusan ultrasonik ialah kaedah penyemburan ricih-rendah yang berkesan mengelakkan pecah zarah dan pengagregatan, mengekalkan sifat asal buburan.

---

Ciri-ciri RPS-Peralatan Muncung Atomisasi Ultrasonik SONIC

Sistem penyemburan pengatoman ultrasonik RPS-SONIC direka untuk-semburan bahan berfungsi dengan ketepatan tinggi dan menawarkan kelebihan berikut:

• Nozel ultrasonik frekuensi tinggi-tinggi memastikan saiz titisan seragam dan stabil.

• Menyokong mod penyemburan berterusan dan berselang-seli.

• Serasi dengan buburan pemangkin kelikatan-rendah dan-ke{2}}tinggi-rendah.

• Dilengkapi dengan-pam suntikan berketepatan tinggi atau pam peristaltik untuk bekalan cecair yang tepat.

• Boleh disepadukan dengan platform gerakan automatik XYZ, platform berputar dan robot.

• Lebar semburan, kadar aliran dan ketebalan filem semuanya boleh dikawal dengan tepat.

• Menyokong R&D makmal, skala{0}}perintis, skala pertengahan-dan aplikasi barisan pengeluaran automatik. Dengan prestasi penyemburan yang stabil dan kadar penggunaan bahan yang tinggi, peralatan RPS-SONIC telah digunakan secara meluas dalam sel bahan api, elektrolisis PEM, bateri litium, fotovoltaik, semikonduktor dan R&D bahan baharu.